偷窃技术？不，这是弯道超车！
056 三款高科技展品，全部来自龙芯！【第三更】（旧版）

“龙芯架构？”

“这份方案书好啊，这一款架构已经有产品了，早已垄断全球市场，拿去CES电子消费展正合适。”

递给其他审核专家也看看，

大家都一致同意。

龙芯公司的产品值得信赖。

EDA软件也是龙芯公司开发的，

早就是内定的展品，

不用写方案书。

算起来，这是龙芯公司的第二款高科技。

真是一家了不起的企业！

接着再往下审核，

这位专家眼睛再度发亮！

1nmAI芯片设计方案书？

这个标题，

让他直接震惊了！

连忙给其他专家查看。

十二个专家都看了一遍，

一致认为，

这份方案书确实了不起，

可是眼下距离展览时日不多，

想要在这么短的时间内设计出来，

难如登天！

在场的专家心中，未免都觉得有些可惜。

然而，

当看完这两份方案书，

准备再装回到文件袋当中去的时候，

忽然发现里面还有一个说明材料，

拿出来一看，

这些专家纷纷惊呆了！

原来1nmAI芯片已经设计出来了，

还得到了许老，赵所长，郑博三位权威专家的一致认可！

再也没有任何疑虑。

专家组十二名成员纷纷没有话说，

这份方案书直接入选。

当天，

两百多分方案书审核下来，

最后选择出来的只有两份方案书，

就是龙芯公司提交上来的。

再加上原先内定的龙芯EDA软件，

好家伙！

这次CES电子消费展，夏国三件展品竟然来自同一家企业。

其实，

他们不知道的是，

不仅来自同一家企业，

还出自同一个人的手笔。

……

很快。

刘主任得到这个消息，欣喜若狂，

马上打电话过来通知，

当王爱国进来向他汇报的时候，

叶龙丝毫没有感觉到惊讶，

他提交的两份方案书，选上很正常，选不上才值得让人惊讶呢。

经过这几天的努力科研，

光源系统他终于搞定。

他研发的这款EUV光刻机，使用的光源模块比起世界上任何一种都要先进。

只要对光刻机有一定了解的都知道，

EUV光刻机又叫做极紫外光光刻机。

之所以如此命名，

就是因为荷国阿斯麦公司研发的EUV光刻机，使用的光源就是极紫外光。

这种光源非常独特，

波长短，

能量足够，

曝光均匀。

最重要的一点，

就是波长短！

这一点尤为重要，

几乎决定EUV光刻机的水准！

波长越短，可曝光的特征尺寸就越小;

用白话来解释，

波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，能够实现的电路图尺寸也就越小。

可见光，g线:436nm

紫外光(UV)，i线:365nm

深紫外光(DUV),KrF准分子激光:248nm,ArF准分子激光:193nm

极紫外光(EUV)，10~15nm

以上这四种类型，是光刻机光源模块采用的四种光源。

前面三种类型的光源，夏国已经全部掌握。

只有第四种，

极紫外光，难度极高，

目前为止也只有米国掌握。

荷国光刻机巨头，阿斯麦公司，

制造的EUV光刻机，

光源模块也是直接从米国买过来的。

使用极紫外光，光刻5nm芯片自然没有问题，

可是3nm芯片，

甚至2nm芯片，

乃至1nm芯片，

就完全不行。

必须要波长更短的光源才可以实现。

而叶龙抽奖的时候，已经获得这种光源获得方式：

电子束光源技术！

没错！

顾名思义，

这种光源完全是电子束发出的光线。

波长与极紫外光相比，

尺寸小了至少三倍！

波长只有3~5nm，制造1nm芯片电路图都毫无压力。

再说光线能量问题。

能量越大，绘制芯片电路图的时候，曝光时间就越短。

这样的话，

不仅能够提升生产效率，

更为关键的是，

期间出现问题的几率也就越小。

而电子束光源，

说白了就是高速运动的电子束，产生的能量可想而知！

比起极紫外光，

能量至少提高十倍！

最后再说曝光能量均匀分布的问题。

这就和光源平行度有很大的关系了。

极紫外光平行度可以达到90%，

这个数据已经非常恐怖了！

可与电子束光源相比，

双方就完全不是一个等级了。

因为电子束光源平行度能够达到100%，每个电子的运行方向和速度完全一致，

可以说是最完美的平行光。

绘制芯片电路图的时候，光线完全均匀照射，曝光能量自然也是相当均匀的。

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第三更。

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